Universidade Federal dos Vales do Jequitinhonha e Mucuri

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Deposição eletroquímica de filmes finos de ligas de Fe, Ni e Mn

Projeto de pesquisa

Período
2016–2017
Resumo
Pretendemos com esse projeto estudar a deposição eletroquímica de filmes de ligas de Fe, Ni e Mn em diferentes substratos. O interesse tecnológico nesses filmes está relacionado principalmente a aplicações em dispositivos magnetoeletrônicos que empregam materiais com comportamento superparamagnético, anisotropias magnéticas não usuais e magnetorresistência gigante. A deposição eletroquímica pode ser utilizada para a produção de tais filmes com propriedades similares às de filmes produzidos por deposição física por vaporização (PVD), mas com custos significativamente inferiores. Nesse trabalho as propriedades básicas dos filmes serão investigadas, desde a produção até algumas características estruturais. Serão depositados filmes compostos por um único elemento e algumas ligas. Em eletrodeposição de ligas de elementos do grupo do Fe é comum a ocorrência de deposição anômala e para sua melhor compreensão e controle precisamos conhecer detalhes da deposição dos elementos separadamente, o que consistirá em boa parte do projeto. A premissa é que os resultados alcançados sirvam de base para trabalhos futuros de deposição de ligas metálicas com características específicas com dois elementos ou mais, já tendo otimizado os parâmetros de deposição.

Coordenador